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瑞萨GaN技术加速功率电子革新

来源:瑞萨| 发布日期:2025-10-08 14:00:02 浏览量:

随着人工智能、电动汽车和工业自动化对性能需求的持续攀升,传统硅基半导体在开关速度、能效和功率密度方面正逼近物理极限。系统设计面临前所未有的挑战:更高频率的操作、更小的散热空间、更严苛的能效标准。在此背景下,宽禁带半导体材料——氮化镓(GaN) 凭借其卓越的电学特性,成为突破瓶颈的关键技术。

相比硅和碳化硅(SiC),GaN具备更高的电子迁移率、更低的导通与开关损耗,以及更强的高频工作能力。这使其能够在更小的封装内实现更高的功率密度,显著缩小电源系统的体积与重量,同时提升整体效率。从数据中心到电动汽车,从工业机器人到可再生能源系统,GaN正在重塑高功率电子的设计范式。

瑞萨GaN技术加速功率电子革新

瑞萨布局:收购Transphorm,强化GaN生态

2024年,瑞萨电子完成对GaN先驱企业Transphorm的收购,标志着其在宽禁带半导体领域的战略升级。此次交易不仅带来了超过1000项专利,还整合了Transphorm成熟的SuperGaN®技术平台——一种基于常闭型d-mode GaN FET的解决方案。该平台将高压耗尽型GaN HEMT与低压硅基MOSFET驱动器集成,兼具GaN的高性能与硅的易用性,简化了系统设计并提升了可靠性。

通过此次收购,瑞萨获得了位于日本、中国台湾的研发与制造能力,并计划自2027年起与美国Polar Semiconductor合作生产200mm GaN-on-Silicon器件,进一步拓展本土化供应链。

数据中心:GaN推动AI算力革命

在AI和高性能计算(HPC)驱动下,单个服务器机柜功耗已飙升至600kW,AC-DC电源系统功率接近1MW。为应对这一挑战,超大规模数据中心亟需更高效率的电源架构。GaN支持的无桥图腾柱PFC和高密度DC-DC转换器,可实现高达99%的转换效率,并显著提升功率密度。今年7月,瑞萨发布三款650V第四代增强型GaN FET(Gen IV Plus),芯片面积较前代缩小14%,品质因数提升20%,专为下一代AI服务器电源优化。

汽车与工业:向主驱系统渗透

在电动汽车领域,GaN正逐步进入车载充电器(OBC)和DC-DC转换器。其横向器件结构支持双向功率流,简化拓扑,减少元件数量,提升效率并减轻系统重量,有助于延长续航里程。尽管SiC仍主导主驱逆变器市场,但GaN已在辅助系统中取得突破,多家OEM正评估其在主驱中的应用潜力。

在工业机器人中,GaN赋能更紧凑、高效的伺服驱动系统,使机械臂更轻便灵活,同时降低能耗与系统成本。

可靠性与未来蓝图

为满足汽车和工业市场的严苛要求,瑞萨GaN产品已超越JEDEC JESD47认证标准,其第四代平台预计于2027年中达到AEC-Q101车规认证。公司提供业内最广泛的封装选择,包括顶部散热(TOLT)和集成驱动器-FET方案,以优化热性能与电气表现。

展望未来,瑞萨正积极开发40–200V低压GaN产品,将GaN优势延伸至电源次级侧转换,如AI HVDC降压、电池管理等场景。结合其强大的MCU、SoC与模拟产品组合,瑞萨致力于构建完整的“成功产品组合”,推动GaN从分立器件迈向系统级解决方案。

GaN不仅是技术演进,更是功率电子产业的范式转变。瑞萨正通过技术创新与生态整合,加速这一进程,助力构建更高效、更智能的未来。

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