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深入探析芯片扇出型封装工艺流程

来源:中芯巨能:提供选型指导+现货供应+技术支持| 发布日期:2024-04-20 14:00:02 浏览量:

随着集成电路技术的不断发展,封装技术也在不断演进。扇出型封装(Fan-Out Wafer Level Packaging,简称FO-WLP)作为一种先进的封装技术,在近年来受到了广泛关注和应用。芯片现货供应商-中芯巨能将为您介绍扇出型封装的工艺流程,以及其在集成电路封装领域的重要性和应用前景。

1. 扇出型封装概述

扇出型封装是一种在晶圆级别封装(WLP)的基础上发展起来的先进封装技术。它将芯片封装在晶圆的表面,然后利用铜柱(Cu Pillar)将芯片连接到基板上,最终形成封装好的器件。与传统封装技术相比,扇出型封装具有更小的封装体积、更高的集成度和更低的封装成本等优势,因此被广泛应用于移动通信、消费电子、汽车电子等领域。

2. 扇出型封装工艺流程

步骤一:准备晶圆

扇出型封装的工艺流程以准备晶圆作为起始步骤。在这一步骤中,晶圆经过清洗、去除氧化层等处理,以确保后续的工艺可以顺利进行。

步骤二:胶水涂布

接下来,将一层特殊的胶水涂布在晶圆表面,以用来粘附芯片和形成封装体。

步骤三:芯片定位和粘附

将芯片按照预定的位置放置在晶圆表面,然后经过加热和压力的作用,使其与胶水牢固粘附在一起。

步骤四:金属层沉积

在芯片上方沉积一层金属层,通常采用铜或银等金属材料。这一层金属层将用于后续的铜柱形成和电连接。

步骤五:光刻和蚀刻

利用光刻技术将金属层进行图案化处理,然后通过蚀刻将多余的金属层去除,留下所需的金属连接部分。

步骤六:铜柱形成

利用电镀技术,在金属连接部分上电镀一层铜,形成铜柱。铜柱将用于连接芯片和基板,完成器件的电连接。

步骤七:填充和平坦化

将填充材料(通常为树脂)注入到芯片周围,填充空隙并固化,以增强器件的机械强度和保护性能。然后利用化学机械抛光(CMP)技术对封装体进行平坦化处理。

步骤八:封装测试

最后,对封装好的器件进行测试和检验,包括外观检查、电气测试、可靠性测试等,以确保器件的质量和性能符合要求。

3. 扇出型封装的应用前景

扇出型封装作为一种先进的封装技术,具有许多优势,如封装体积小、集成度高、封装成本低等,因此在移动通信、消费电子、汽车电子等领域有着广阔的应用前景。随着移动设备的智能化、功能的增强以及对封装技术的要求不断提升,扇出型封装将会成为未来封装技术的主流之一。

扇出型封装作为一种先进的封装技术,在集成电路封装领域具有重要的地位和应用前景。通过深入了解其工艺流程和优势特点,可以更好地理解其在电子产业中的重要性和价值。相信随着技术的不断进步和应用的不断拓展,扇出型封装将为电子产品的发展带来更多的创新和可能性。

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